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总结

据韩媒 ChosunBiz 12 月 29 日报道,在人工智能带动存储半导体景气、DRAM 需求升温背景下,三星电子正推进韩国平泽半导体工厂扩产。公司决定重启平泽 P5 产线建设并进入基础设施招标阶段,采用主体施工、设备招标与安装并行的方式,提前采购气体与化学品供应设备,意在缩短量产周期、尽快应对市场需求。P5 位于平泽第二园区,内部目标投产时间为 2028 年,但市场预计或将提前,投资规模至少数千亿韩元、可能达数万亿韩元。同时,平泽 P4 扩建加速,10nm 级第六代 1c DRAM 设备导入与试运行较原计划提前 2-3 个月,产出将用于明年 HBM4 芯片。由于工程仍在施工,业内判断内存短缺难在 2026 年内缓解,转机或在 2026 年末至 2027 年。

正文

IT之家 12 月 30 日消息,据韩媒 ChosunBiz 昨天报道,随着人工智能带动存储半导体产业走向火热,三星正在推动其韩国半导体工厂扩张产能。在决定重启建设平泽市 P5 产线后,公司已进入招标基础设施阶段, 同时平泽 P4 工厂也有了扩充产能的新动向 。 据业内消息,三星电子正在以竞标的方式为平泽 P5 工厂采购气体和化学品供应设备,通常来说,这类设备一般会在工厂主体结构完工后再采购,但此次三星计划采用主体施工、设备招标与安装同步推进的"三步一起走"模式,意在提前量产时间,尽快回应市场上火热的 DRAM 需求。 IT之家了解到,P5 工厂是三星在平泽第二园区内规划的新产线。公司内部近期已决定推进主体工程建设,并将目标投产时间定在 2028 年。 不过随着内存短缺潮不断升温,市场普遍认为三星可能会进一步提早 P5 产线的投产时间,整体投资规模至少为数千亿韩元,甚至可能到数万亿韩元级别。 一位熟悉三星电子的业内人士透露:"此次 P5 投资的推进速度前所未有。通常气体、化学类设备都是在主体完工后才建设,但这次公司显然是决定并行推进。反映出高管意图对市场变化做出迅速转变"。 与此同时,三星平泽 P4 工厂的扩建工程也呈现加速趋势,这家工厂主要生产 10nm 级第六代 1c DRAM,相关设备导入与试运行相比原计划提早 2-3 个月,产出的 1c DRAM 将用于明年的 HBM4 芯片。 不过由于相关工程仍处施工阶段,因此三星不太可能在 2026 年就解决内存市场短缺状况,真正的转机很可能要等到 2026 年末或 2027 年。
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