我国液态金属柔性电子制造研究取得进展，中科院理化技术研究所等团队提出无损刻蚀图案化技术，突破传统制造工艺瓶颈，实现无材料损耗电路图案化制备，分辨率达 5μm，兼容 8 类基底。还提出形状自适应共形电子制备技术，攻克三维曲面电子器件制造难题。两项成果解决了柔性电子两大痛点，覆盖全链条创新，推动了理论创新，在可穿戴健康监测、植入式诊断器件、航空航天智能系统等领域展现应用前景。