佳能计划2026年初发售氟化氪光刻机新机型

日本佳能表示，最早将于2026年初推出面向成熟制程半导体的氟化氪（KrF）光刻机新机型，用于在晶圆上绘制微细电路。这是其约14年来首次升级该类设备，新机型处理能力每小时400片以上，比2012年款（含选配）提升约三成，意在把握逻辑与存储器厂商对运算相关芯片的需求。佳能称其在KrF机型台数口径占全球约30%份额，并与阿斯麦等竞争；同时计划同期发布支持更精细电路的氟化氩干式光刻机。